刘焱当初投资研发光刻机，本来就没想过依靠它盈利，量产型号的光刻机，对外售价只有百万人民币。
这个价格只有国外同类产品的三分之一左右，可谓是物美价廉。
可惜这年月，内地的晶圆工厂大多不成气候，后续订单就算有，也不会有太多。
好在维创电子公司自己就有晶圆工厂，且盈利丰厚，只要自产光刻机能完美替代进口产品，且能跟随摩尔定律不断升级进化，花再多的研发资金也是值得。
表彰大会之后，刘焱召集全体光刻机研发室实验室成员，召开了一个研讨会，对下一步的研发计划和研发方向进行了部署。
在研讨会上，刘焱代表维创电子公司率先发言，说道：
“一微米光刻机已经研发成功，并定型量产，在座的诸位功不可没。
但这一切都已经是过去式，接下来，咱们要在一微米光刻机的基础上，再接再厉，研发0.5微米制程的光刻机。
我代表维创电子公司表个态，不管研发过程中遭遇怎样的困难，需要投入几亿，十几亿，甚至几十亿的研发资金，我们维创电子也在所不惜。
接下来，有请廉教授就下一代光刻机研发计划，做一下总体规划。”
廉安平教授拿出一份手写的稿子，清了清嗓子说道：
“当初刘老板提供的光刻机研发资料中，有一份0.5微米光刻机研发概要，点明了几个研发要点，包括光源，透镜系统，双工台，掩模台等等。
其中双工台、掩膜台、控制系统、晶圆传输系统，可以通过一微米光刻机的相关部件进行升级改造达成，难度不是太大。
但为了达到0.5微米的加工精度，光源系统和透镜系统需要重新设计，重新打造，这个难度不是一般的大。”
乌光辉跟着发言道：
“我是搞激光技术出身，在光刻机光源方面有一定研究。光刻分辨率想要达到0.5微米，光源波长需要达到365nm以下，且对光源强度和均匀度都有非常严格的要求。咱们在一微米光刻机上使用的高压汞灯，理论上其极限能达0.35微米的加工精度，但需要对其结构进行彻底的改造，且越是接近极限，越难以达成。
而被业界普遍认定是下一代光刻机光源的krf（氟化氪）准分子激光，光源波长为24nm，可以使最小工艺节点提升至350-0nm水平。当今世界上，很多激光相关的研究所，都在对准分子激光进行研发，进度参差不齐，达到实用水平的，一个都没有。
我的建议是，在光刻机光源方面，两种线路同时研发，哪个率先取得突破，下一代0.5微米光刻机上，就使用哪一种光源。”
一位光学方面的专家发言道：
“光源波长越短，传播过程中越容易被透镜吸收。下一代0.5微米光刻机，如果依旧使用高压汞灯当光源，使用现在的透镜组合就足够了，顶多加工精度再提高一些。
如果使用准分子激光做光源，透镜系统就需要推倒重做，组合里至少增加两枚玻璃透镜，参数也要重新设计，还有镀膜材质也要重新开发。
这方面研究需要尽快提上日程，如果开发新透镜组合，需要的计算量非常的大，使用普通计算机计算，需要的时间会非常长，我建议咱们使用arm芯片，组装一台超级计算机出来。”
一位深镇大学教计算机的教授，推了推眼镜出声道：
“超级计算机确实是个好东西，咱们很多研发中的项目涉及到大量数据计算和模拟测试，如果咱们实验室有一台超级计算机，可以把研发速度提高很多。
维创电子公司晶圆工厂出产的arm芯片，是世界上第一款精简指令集芯片，以0万晶体管数量，提供了远超026芯片的性能，在功耗上，也只有后者的三分之一左右，是制作超级计算机的最优芯片。
只是超算并不是单纯的堆叠芯片，还涉及到并行计算、指令分发、数据交互、大量数据存储、高效率散热等等技术，咱们这边根本没有相关人才，想要自己研发超级计算机难上加难。”
接下来，光刻机研发小组的成员，各抒己见，给下一代0.5微米光刻机的研发，提供了很多的好思路。
最后，刘焱做了总结发言，说道：
“大家说的很好，0.5微米光刻机的研发工作就拜托大家了。我们维创电子公司会先期投资0亿，作为研发资金，如果需要某些先进设备，或稀有原材料，打报告上来，我会想办法，从国外采购。
超级计算机的事情先不要着急，据我所知，gfkj大学计算机研究所目前正在进行国内第一台巨型机的研发，咱们可以跟那边联系一下，将咱们的arm芯片提供过去，看看双方能不能达成合作。
另外芯片生产线上除了已经被咱们攻克的光刻机，还有刻蚀机，清洗机，离子注入机，单晶炉，晶圆划片机等等设备，这些都需要咱们去光产化。